Virtual metrology models for predicting overlay of photolithography process - Mines Saint-Étienne
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Virtual metrology models for predicting overlay of photolithography process

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Sabine Salmeron  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal-emse.ccsd.cnrs.fr/emse-00470438

Soumis le : mardi 6 avril 2010-15:25:04

Dernière modification le : mardi 17 septembre 2024-15:45:15

Fichier non déposé

Dates et versions

emse-00470438 , version 1 (06-04-2010)

Identifiants

  • HAL Id : emse-00470438 , version 1

Citer

Ariane Ferreira, Christelle Kernaflen, Yacine Oussar, Laurent Bucelle, Quentin Mathian, et al.. Virtual metrology models for predicting overlay of photolithography process. 10th European Advanced Equipment Control/ Advanced Process Control (AEC/APC) Conference, Apr 2010, Catania, Italy. ⟨emse-00470438⟩

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