FDC Pre Alignement & Alignement based on off line data analysis – Concept and industrial application on photolithography - Mines Saint-Étienne
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

FDC Pre Alignement & Alignement based on off line data analysis – Concept and industrial application on photolithography

Sabine Salmeron  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal-emse.ccsd.cnrs.fr/emse-00470515

Soumis le : mardi 6 avril 2010-17:24:14

Dernière modification le : mardi 17 septembre 2024-15:46:11

Fichier non déposé

Dates et versions

emse-00470515 , version 1 (06-04-2010)

Identifiants

  • HAL Id : emse-00470515 , version 1

Citer

Quentin Mathian, Christelle Kernaflen, Ariane Ferreira, Laurent Bucelle. FDC Pre Alignement & Alignement based on off line data analysis – Concept and industrial application on photolithography. 11th Technical and Scientific Meeting of ARCSIS “Wafer Manufacturing Process Control: methods, applications and new challenges, Nov 2008, Fuveau, France. ⟨emse-00470515⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

EMSE CMP-ENSMSE SFL-ENSMSE INSTITUT-MINES-TELECOM
67 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More