Virtual Metrology Models for Predicting Overlay of Photolithography Process - Mines Saint-Étienne
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Virtual Metrology Models for Predicting Overlay of Photolithography Process

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Ariane Ferreira  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal-emse.ccsd.cnrs.fr/emse-00554221

Soumis le : lundi 10 janvier 2011-14:56:49

Dernière modification le : mardi 17 septembre 2024-15:45:36

Fichier non déposé

Dates et versions

emse-00554221 , version 1 (10-01-2011)

Identifiants

  • HAL Id : emse-00554221 , version 1

Citer

Ariane Ferreira, Christelle Kernaflen, Laurent Bucelle, Quentin Mathian, Stéphane Decorme. Virtual Metrology Models for Predicting Overlay of Photolithography Process. AEC / APC 2010 (11th European Advanced Equipment Control / Advanced Process Control), Apr 2010, catane, Italy. ⟨emse-00554221⟩

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