Virtual Metrology Models for Predicting Overlay of Photolithography Process

Type de document :
Communication dans un congrès
AEC / APC 2010 (11th European Advanced Equipment Control / Advanced Process Control), Apr 2010, catane, Italy
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https://hal-emse.ccsd.cnrs.fr/emse-00554221
Contributeur : Ariane Ferreira <>
Soumis le : lundi 10 janvier 2011 - 14:56:49
Dernière modification le : vendredi 10 juillet 2015 - 01:02:58

Identifiants

  • HAL Id : emse-00554221, version 1

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Citation

Ariane Ferreira, Christelle Kernaflen, Laurent Bucelle, Quentin Mathian, Stéphane Decorme. Virtual Metrology Models for Predicting Overlay of Photolithography Process. AEC / APC 2010 (11th European Advanced Equipment Control / Advanced Process Control), Apr 2010, catane, Italy. 〈emse-00554221〉

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